均匀的InGaN纳米点成功地在SiO2预处理的GaN表面上生长。发现InGaN纳米点的直径约为20nm，高度约为5nm。在InGaN纳米点的表面上生长两个周期的InGaN / GaN量子阱之后，由于增强的相分离现象而在InGaN阱层中仍然形成纳米点结构。从具有InGaN / GaN量子阱的InGaN纳米点的光致发光（PL）光谱中观察到了具有不同行为的双色发射。随着PL激发功率的增加，对低能峰测量了明显的蓝移和线宽加宽，而对高能峰出现了轻微的蓝移和线宽变窄。因此，这两个峰分别来自富In的纳米点和来