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搜索资源 - InfluenceofFluoride-dopedTinOxideInterlayeronNi-Sb-SnO2/TiElectrodes
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Influence of Fluoride-doped Tin Oxide Interlayer on Ni-Sb-SnO2/Ti Electrodes
FTO中间层对镍锑共掺杂二氧化锡电极性能的影响研究，李国，王云海，以氟掺杂氧化锡（FTO）作为中间层制备了镍锑共掺杂二氧化锡(NATO)涂覆钛基底电极，研究了中间层对电极结构、性质以及寿命的影响。用
所属分类：
其它
发布日期：2020-02-20
文件大小：795648
提供者：
weixin_38590989
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