我们介绍了对过程qq→Z + X的总部分截面的O（ααs）校正的第一个结果，包括光子效应和大量弱规范玻色子效应。 结果与强子Z玻色子生产截面的精确测定有关。 使用对主积分的折减及其通过微分方程的评估，可以解析地计算出虚拟校正和实际校正。 实际校正使用逆统一方法进行。 他们需要评估一组新的两环主积分，最多包含三个内部实线。 特别地，它们中的三个用椭圆积分表示。 我们以这种扰动的顺序验证了不存在与夸克-胶子分裂的弱质量虚校正成比例的初始状态奇异点。