采用射频磁控溅射法，以铌靶和硅靶为靶材，在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响，得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明，最佳工艺参数下制备的NbSiN薄膜均匀致密，主要成分为NbN、NbSiN、无定形的Si3N4及少量的SiO2和Nb2N2-xO3+x。光学性能分析表明，NbSiN薄膜在波长550 nm处(人眼最敏感)的可见光透射率为90.5%，红外反射率约为28%，光学性能优异。