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Pt/Si界面的椭圆偏振光谱研究
本文应用椭圆偏振光谱法,研究未经热处理的Pt/(n-Si)界面.在350O(?)~650O(?)的光谱范围内,对椭圆偏振光谱的测量数据进行分析计算,以确定界面的光学响应.结果表明,Pt/(n-Si)界面存在着一界面层,其厚度d_2-30±1(?).本工作同时得到了该界面层的表观光学常数谱和介电函数谱.应用有效介质理论对界面层的介电函数谱进行拟合分析,结果指出,界面层存在着富硅的氧化物(其平均效果是SiO_(1.54)),界面区是Pt、Si和富硅氧化物的物理混合和化学混合区.
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-09
文件大小:4194304
提供者:
weixin_38651468