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  1. 薄膜瞬态温度传感器的制备及性能研究.pdf

  2. 薄膜瞬态温度传感器的制备及性能研究.pdf,针对普通温度传感器存在响应时间长、无法快速测量瞬态温度以及薄膜热电偶引线困难的技术难题,研制了一种响应速度快、测量精度高、引线方便的薄膜瞬态温度传感器。采用直流脉冲磁控溅射技术,在嵌入NiCr NiSi平行电极丝的陶瓷基体端面依次沉积NiSi功能薄膜和SiO2绝缘保护薄膜。利用自行研制的静态标定系统对薄膜传感器的静态性能进行了研究,结果表明所研制传感器在50~400℃范围内具有良好的线性和热稳定性,塞贝克系数为41.2 μV/℃,非线性误差不超过0.
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2019-09-20
    • 文件大小:4194304
    • 提供者:weixin_38743481
  1. 阴极射线管锥玻璃制备高硅氧玻璃粉末

  2. 阴极射线管(cathode ray tube, CRT)锥玻璃是一种典型的危险废弃物,含有大量PbO,BaO,SrO,Al2O3等多种重金属氧化物,因此需要对其进行安全处理和处置。本研究采用碳热还原强化玻璃分相方法将CRT锥玻璃制备成不含重金属的高硅氧玻璃粉末。当处理温度为1000℃,B2O3的添加量为20%,保温时间为30 min时,CRT锥玻璃中Pb,Ba和Sr 3种重金属的酸浸脱除效率分别为99.81%,95.72%和100.00%,其他金属如Na,K,Ca,Al的脱除率分别为80.19%
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-04-28
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38707153
  1. 多核蛋黄-蛋壳结构AumSnO2纳米粒子的制备及其光催化性能研究

  2. 多核蛋黄-蛋壳结构AumSnO2纳米粒子的制备及其光催化性能研究,王亚,张志敏,本文以SiO2为模板,通过简便的溶剂热的方法成功合成了具有多个Au纳米颗粒为核、介孔SnO2为外壳的蛋黄-蛋壳结构纳米粒子。基于其独特�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-03-12
    • 文件大小:748544
    • 提供者:weixin_38675815
  1. 杂聚功能化纳米复合体的制备及性能研究

  2. 杂聚功能化纳米复合体的制备及性能研究,王玲远,王瑶,首先通过分步法在纳米二氧化硅(SiO2)表面接枝聚乙二醇(PEG),然后通过缩聚的方法成功地将低分子量聚对苯二甲酸乙二醇酯(prePET)接枝到�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-03-04
    • 文件大小:404480
    • 提供者:weixin_38699726
  1. BiFeO3 修饰的PZT固溶薄膜中增强的铁电和介电性质

  2. BiFeO3 修饰的PZT固溶薄膜中增强的铁电和介电性质,刘红日,刘祖黎,用溶胶-凝胶方法在600 °C 退火的条件下在LaNiO3/SiO2/Si衬底上制备了(PbZr0.5Ti0.5O3)x¬¬-(BiFeO3)1-x固熔薄膜。XRD研究表明薄膜随x的不同呈�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-03-03
    • 文件大小:541696
    • 提供者:weixin_38522214
  1. PEO-b-PAN嵌段共聚物作模板制备有序纳米结构的SiO2/C杂化材料

  2. PEO-b-PAN嵌段共聚物作模板制备有序纳米结构的SiO2/C杂化材料,崔玉双,鲁在君,先通过阴离子聚合和活性自由基聚合相结合的方法,合成聚环氧乙烷-聚丙烯腈两亲嵌段共聚物(PEO-b-PAN)。然后,嵌段共聚物作结构导
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-02-23
    • 文件大小:553984
    • 提供者:weixin_38517212
  1. 纳米TiO2对负载型磷化物加氢脱氮的促进作用

  2. 纳米TiO2对负载型磷化物加氢脱氮的促进作用,段新平,王安杰,本文通过原位还原方法制备了对SiO2负载的磷化物中以机械混合法引入纳米TiO2的催化剂(Ni2P/SiO2-TiO2(x), MoP/SiO2-TiO2(x) 和WP/SiO2-TiO2(x))。考察�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-02-18
    • 文件大小:339968
    • 提供者:weixin_38693192
  1. 不同粒径单分散SiO2粒子的制备与表面疏水改性

  2. 不同粒径单分散SiO2粒子的制备与表面疏水改性,罗鲲,喻亮,本文以正硅酸乙酯为原料,利用种子生长法等不同的合成方法制备出不同粒径(290nm、960nm、1.3μm和1.9μm)的SiO2胶体颗粒,并研究了KH570�
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-02-07
    • 文件大小:462848
    • 提供者:weixin_38591011
  1. 一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法

  2. 一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法,张见,付猛,本文报道一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法。以甲基三乙氧基硅烷为起始物,经水解和缩聚反应合成聚甲基硅氧烷(MeSiO1.5)n,在
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-01-09
    • 文件大小:373760
    • 提供者:weixin_38605538
  1. HfO的激光调理参数研究

  2. 激光调节是提高电子束蒸发制备的HfO2 / SiO2多层膜激光损伤阈值的有效方法。 在本文中,讨论了一些可能影响激光调节效率的参数。 结果是,最大调节通量应小于其未调节的激光诱导损伤阈值(LIDT)的90%,以避免损坏膜。 脉冲之间的激光束增量和激光调节步骤对提高HfO2 / SiO2多层高反射涂层的损伤阈值有很大影响。 缺陷上光强度的覆盖范围应尽可能宽,光强度的照射范围应尽可能高。 HfO2 / SiO2多层高反射涂层的激光调理的主要机理可能是去除Hf,Si和O离子以及去除膜中的缺陷。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-06-04
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38735899
  1. 合成气制甲醇铜基催化剂CuO/ZnO/KIT-6的制备与表征

  2. 以KIT-6为载体,采用浸渍法制备了新型的CuO/ZnO/KIT-6催化剂,通过TEM、XRD、N2-吸附脱附等方法对催化剂的结构形貌进行了表征,探究了活性组分CuO/ZnO在KIT-6载体上的分散状态。在此基础上,考察了CuO/ZnO/KIT-6催化剂在合成气制甲醇反应中的催化活性和热稳定性。研究发现,KIT-6载体具有立方Ia3d孔结构以及开放有序的孔道,可在一定程度上抑制活性组分粒子的生长,从而使活性组分CuO/ZnO在载体的表面和孔道中均匀分散,且晶粒尺寸较小。催化性能结果表明,与常规S
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-06-20
    • 文件大小:635904
    • 提供者:weixin_38666114
  1. Ni负载量对负载型Ni/SiO2催化剂结构及性能的影响

  2. 采用等体积浸渍法制备了Ni/SiO2催化剂,研究了镍负载量对二硝基甲苯(DNT)加氢制备甲苯二胺(TDA)的催化性能的影响,并通过XRD,BET,H2-TPR,H2-TPD方法对催化剂微观结构进行了表征。结果表明,Ni/SiO2催化剂在二硝基甲苯加氢合成甲苯二胺的反应中表现出良好的活性和选择性。当Ni负载量(即Ni与SiO2的质量比m(Ni):m(SiO2))≤28%时,随着镍负载量的增加,Ni活性中心数逐渐增大,催化剂的活性逐渐升高;而当Ni负载量>28%时,Ni活性组分在载体表面发生团
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-06-20
    • 文件大小:236544
    • 提供者:weixin_38670707
  1. SiO2的制备方法

  2. 热氧化法干氧氧化水蒸汽氧化湿氧氧化干氧-湿氧-干氧(简称干湿干)氧化法氢氧合成氧化化学气相淀积法热分解淀积法溅射法 干法氧化通常用来形成栅极二氧化硅膜,要求薄、界面能级和固定电荷密度低的薄膜。干法氧化成膜速度慢于湿法。湿法氧化通常用来形成作为器件隔离用的比较厚的二氧化硅膜。当SiO2膜较薄时,膜厚与时间成正比。SiO2膜变厚时,膜厚与时间的平方根成正比。因而,要形成较 厚的SiO2膜,需要较长的氧化时间。SiO2膜形成的速度取决于经扩散穿过SiO2膜到达硅表面的O2及OH
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    • 发布日期:2020-12-09
    • 文件大小:34816
    • 提供者:weixin_38674675
  1. 近红外宽带发光掺铋石英光纤的研制

  2. 采用改进化学汽相沉积(MCVD)与溶液掺杂结合的方法探讨了掺铋石英光纤预制棒的制备工艺,研制了具有红外宽带发光特性的掺铋SiO2-Al2O3-GeO2光纤。研究了不同掺锗浓度与氧气浓度条件下制备的预制棒的光谱特性。掺铋预制棒切片在532 nm和808 nm光激发下,产生中心波长为1146 nm,半峰全宽为204 nm与中心波长为1281 nm,半峰全宽为250 nm的近红外发光。拉制的光纤在808 nm光激发下,产生了中心波长为1265 nm,半峰全宽为280 nm的近红外发光;在976 nm光
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-22
    • 文件大小:1048576
    • 提供者:weixin_38675815
  1. 高折射率材料吸收特性对193 nm HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2多层膜反射特性的影响

  2. 由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193 nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制。由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线。结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高。通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果。这说明Y
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    • 发布日期:2021-02-13
    • 文件大小:510976
    • 提供者:weixin_38535428
  1. 厚二氧化硅光波导薄膜的制备

  2. 随着光通信的飞速发展,Si基SiO2平面光波导集成器件的应用更加重要和广泛。在Si基上制备高质量的厚SiO2薄膜,是制作SiO2光波导及其集成器件的基础。本文介绍了Si基厚SiO2薄膜的几种制备方法。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-11
    • 文件大小:363520
    • 提供者:weixin_38635092
  1. 脉冲准分子激光PZT薄膜的制备

  2. 本实验采用脉冲准分子激光沉积(PLD)法,在193 nm波长,5 Hz频率,4 J/cm2能量密度条件下,分别在Si(100)和SiO2/Si衬底上成功地沉积Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜,并在不同的条件下对PZT薄膜进行退火处理。用XRD,RBS,ASR等方法分别测量了薄膜的结构、组份和厚度。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-10
    • 文件大小:986112
    • 提供者:weixin_38653443
  1. 在反应磁控溅射过渡区制备高反射膜的工艺控制

  2. 用反应磁控溅射法制备了Ta2O5和SiO2的单层膜和多层高反射薄膜, 研究了在过渡区制备高质量光学薄膜的影响因素和机制, 探讨了制备高质量光学薄膜的工艺, 并引入了一种结合拟合方法的被动控制技术来实现在磁控溅射过渡区制备高质量的光学多层膜。结果表明, 在反应磁控溅射过渡区制备的光学薄膜不仅具有比氧化区更高的沉积速率, 而且具有更高的折射率和更低的光损耗。在过渡区镀制光学多层膜时速率的变化与溅射电压的漂移有关, 并且可以通过监测溅射电压随时间的变化结合拟合算法加以修正。在表面均方根粗糙度为0.56
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-10
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38727567
  1. 用于空间激光通信系统的近红外分色片设计与研制

  2. 介绍了一种1530 nm透射、1560 nm反射和45°工作列近红外分色片的设计与制备方法。选择Ta2O5和SiO2两种光学薄膜材料,采用多谐振腔法布里珀罗(F-P)窄带滤光片结构作为初始膜系,并选择4H作为谐振腔的间隔层进行消偏振设计,实现分色片透、反射过渡区域的压缩。采用电子束蒸发加离子辅助沉积技术,并应用光学极值法监控各膜层厚度,实现分色片多层膜的制备。利用分光光度计对分色片的光谱进行了分析测试,结果表明研制出的分色片在工作波长的光学能量传递效率高于92%,适用于空间激光通信系统中不同波长
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-05
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38685455
  1. 荧光显微镜中蓝光激光器基频腔面膜的研制

  2. 蓝光激光器在生物工程、激光显示屏、激光医疗以及侦查通讯等众多领域都有着重要应用,而谐振腔作为激光器的重要组成部分,如何合理有效地激发出蓝光更是研究的重点。针对蓝光激光器的使用要求,以Nd:YAG作为基底,Ta2O5和SiO2分别作为高低折射率材料,利用电子束真空镀膜设备,双离子源辅助沉积的方法进行谐振腔面膜的制备。借助膜系设计软件对实验进行模拟分析,优化改善电场分布,减小激光对薄膜的损伤,详细地叙述了极值法累积误差产生的原因,以及镀膜材料的色散引起的短波区和长波区的监控差异,通过分析折射率所引起
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2021-02-05
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:weixin_38559866
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