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Structure and Electrical Properties of Nd/Ni-Codoped Bismuth Titanate Thin Films Prepared by Chemical Solution Depositio
化学溶液沉积法制备Nd/Ni共掺钛酸铋薄膜及电学特性，刘为方，姜鹏，采用化学溶液沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si 衬底上制备了(Bi3.15Nd0.85)(NixTi1-x)3O12 (BNNT)薄膜，研究了Ni掺杂量对薄膜结构和电性能的影响。Ni掺杂增�
所属分类：其它
- 发布日期：2019-12-29
- 文件大小：270336
- 提供者：weixin_38706531