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  1. Tanner:基于PC的IC设计工具降低MEMS设计门槛

  2. 鉴于MEMS工艺源自光刻微电子工艺，所以人们很自然会考虑用IC设计工具来创建MEMS器件的掩膜。然而，IC设计与MEMS设计之间存在着根本的区别，从版图特性、验证或仿真类型，到最重要的构造问题。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-10-26
    • 文件大小：128000
    • 提供者：weixin_38704485