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  1. Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

  2. Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响，苏海桥，薛书文，利用真空蒸发法在石英玻璃衬底上制备了ZnS薄膜，将能量80keV，剂量1×1017ions/cm2的Ti离子注入到薄膜中，并将注入后的ZnS薄膜进行退火处�

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-28
    • 文件大小：517120
    • 提供者：weixin_38548704

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  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-05
    • 文件大小：535552
    • 提供者：weixin_38688956