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搜索资源 - ZnS衬底上GeC/GaP增透保护膜系的制备及红外光学性质
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ZnS衬底上GeC/GaP增透保护膜系的制备及红外光学性质
把GeC/GaP双层膜用作ZnS衬底的长波红外(8~11.5 μm波段)增透保护膜系。采用射频磁控溅射法,以高纯Ar为工作气体、单晶GaP圆片为靶制备了GaP薄膜;用射频磁控反应溅射法在高纯Ar和CH4的混合气体中,以单晶Ge圆片为靶制备了GeC薄膜。分别用柯西(Cauchy)公式和乌尔巴赫(Urbach)公式表示折射率和吸收系数,对薄膜的红外透射率曲线进行最小二乘法拟合,得到了它们的厚度及折射率、吸收系数等光学常数。GaP膜的折射率与块体材料的相近,在波长10 μm处约为2.9;GeC膜的折射
所属分类:
其它
发布日期:2021-02-11
文件大小:491520
提供者:
weixin_38688145