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搜索资源列表

  1. 凝胶浇注法合成YSZ粉体及其性能研究

  2. 凝胶浇注法合成YSZ粉体及其性能研究，张利利，雷泽，以ZrO(NO3)2•xH2O、Y(NO3)3•6H2O为原料，采用凝胶浇注法合成了亚微米级YSZ（8mol%Y2O3-ZrO2）陶瓷粉体。采用热重-差热(TG-DSC) 对YSZ凝胶热分解进

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2020-02-07
    • 文件大小：292864
    • 提供者：weixin_38708223

  1. 开源项目-zro-cmd.zip

  2. 开源项目-zro-cmd.zip,Go tooling style command/flag processing

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2019-09-04
    • 文件大小：6144
    • 提供者：weixin_38744435

  1. 准分子脉冲激光沉积法制备的ZrO

  2. 采用准分子脉冲激光沉积法(PLD)分别在Pt/Ti/SiO2/Si和SiO2/Si衬底上制备了ZrO2薄膜，采用扩展电阻法（SRP）研究了薄膜纵向电阻分布；采用X射线衍射法（XRD）研究了衬底温度对ZrO2薄膜结晶性能的影响；精确测试了薄膜的表面粗糙度；讨论了薄膜结晶性能与其电学I-V特性之间的关系。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-03-05
    • 文件大小：788480
    • 提供者：weixin_38752897

  1. 三种不同后处理方式对ZrO

  2. 采用有氧热处理、激光预处理和离子后处理三种方式对电子束蒸发(EBE)制备的单层ZrO2薄膜进行了后处理,并分别对样品的光学性能和抗激光损伤阈值(LIDT)特性进行了研究。实验结果表明,热处理方式可以有效排除膜层内吸附的水气,弥补薄膜制备过程中的氧损失,使得光谱短移、吸收减小、损伤阈值增高; 激光预处理过程可以在一定程度上减少缺陷、提高损伤阈值,但对膜层的光谱和吸收情况没有明显的改善作用; 而离子后处理能够提高膜层的堆积密度、减少缺陷、降低吸收从而提高损伤阈值。由于三种方式处理机制不同,在实际应用

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-26
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38633897

  1. 不同氧分压下ZrO

  2. 在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法生长了氧化锆薄膜.通过扫描探针显微镜、分光光度计、X射线衍射、激光损伤阈值(LIDT)测量等,研究了沉积中氧分压对ZrO2薄膜的微结构、光学性质、激光损伤阈值等的影响.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-25
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38528180

  1. 激光熔注制备ZrO

  2. 采用激光熔注技术在Ti-6Al-4V表面制备了ZrO2p热障涂层,利用X-射线衍射、电子背散射衍射及扫描电镜技术,研究了激光熔注过程中ZrO2颗粒的组织演变规律。结果表明:通过原子固态扩散,团聚态ZrO2颗粒内的微粒尺寸增大,并由球状变为多面体状;激光熔注后,ZrO2颗粒中未发现单斜相(m-ZrO2);35%的稳定四方相(t''-ZrO2)转变为立方相(c-ZrO2);内应力降低,导致90%的正交相(o-ZrO2)转变为c-ZrO2。单个微粒内同时存在块状和纳米颗粒状t''-ZrO2和c-ZrO

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-22
    • 文件大小：13631488
    • 提供者：weixin_38667920

  1. 电子束蒸发沉积工艺条件对ZrO

  2. 在电子束蒸发沉积制备ZrO2薄膜的过程中,采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率。用NKD7000分光光度计测量了ZrO2薄膜的折射率和膜厚,用原子力显微镜分别观测了不同工作气压和沉积速率下薄膜的表面形貌、均方根粗糙度。结果表明,随着工作气压的升高,膜层的结构变疏松,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之减小。随着沉积速率的增大,膜层的结构变致密,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之增大。并且从工具因子（TF）的角度得到了证实。实际镀膜过程中应该根据激光薄膜的应用需要选用合适的工艺条件,在允许的均方根粗糙度

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38528939

  1. ZrO

  2. 用溶胶-凝胶技术,采用提拉镀膜法在K9玻璃基片上镀制了ZrO2/SiO2双层膜和SiO2/ZrO2双层膜,研究了这两种膜层之间的渗透问题。用X射线光电子能谱仪(XPS)测量了薄膜的成分随深度方向的变化,用反射式椭偏仪对X射线光电子能谱仪测得的实验结果进行模拟与验证。结果表明,用X射线光电子能谱仪测得的实验结果建立的椭偏模型,模拟出来的椭偏曲线和用椭偏仪测量出来的椭偏曲线十分吻合; 对于ZrO2/SiO2双层薄膜,膜层间的渗透情况不是很严重,在薄膜界面处薄膜的成分比变化非常明显,到达一定深度后薄膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38522795

  1. 沉积温度对电子束蒸发沉积ZrO

  2. ZrO2薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射(XRD)仪和原子力显微镜(AFM)检测了ZrO2薄膜的晶体结构和表面形貌,发现室温下沉积ZrO2薄膜样品为非晶结构,随着沉积温度升高,ZrO2薄膜出现明显的结晶现象,在薄膜中同时存在四方相及单斜相。薄膜表现为自由取向生长,晶粒尺寸随沉积温度升高而增大。同时发现薄膜中的残余应力随沉积温度的升高,由张应力状态变为压应力状态,这一变化主要是薄膜结构变化引起的内应力的作用结果。同时讨论了不同沉积温度对ZrO2薄膜光学性质的影响

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-12
    • 文件大小：617472
    • 提供者：weixin_38570278

  1. 不同沉积参量下ZrO

  2. ZrO2是用于高抗激光损伤薄膜的重要材料,其结构及性能与沉积条件有很大关系。采用X射线衍射(XRD)技术分析了不同充氧条件和沉积温度对ZrO2薄膜组成结构的影响,并对不同工艺下制备的薄膜的表面粗糙度和激光损伤阈值进行了测量。结果发现随着氧压的升高,ZrO2薄膜将由单斜相多晶态逐渐转变为非晶态结构,而随着基片温度的增加,薄膜将由非晶态逐渐转变为单斜相多晶态。同时发现随着氧压升高晶粒尺寸减小,而随着沉积温度增加,晶粒尺寸增大。氧压增加时工艺对表面粗糙度有一定程度的改善,而沉积温度升高,工艺对表面粗糙

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：845824
    • 提供者：weixin_38526979

  1. ZrO

  2. 采用ZYGO MarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2薄膜中的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2薄膜残余应力的影响。实验结果表明

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：645120
    • 提供者：weixin_38654855

  1. 掺杂CdS超微粒的ZrO

  2. 研究了用溶胶凝胶方法制备的CdS超微粒/ZrO2薄膜的发光特性,测量了不同退火温度处理的样品的荧光光谱、荧光激发光谱和荧光衰减曲线的变化,通过荧光衰减曲线研究了140 ps左右的CdS的带间跃迁发射和较慢的表面态发射.还测量了这种掺有CdS超微粒的ZrO2薄膜的飞秒光克尔效应,得到三阶非线性光学极化率为4.4×10-11 esu和大约100 fs的响应时间.结果表明,这类材料具有较大的光学非线性和快速的响应时间,在高速光开关等方面有潜在的应用前景.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：190464
    • 提供者：weixin_38504417

  1. 激光熔覆ZrO

  2. 用激光束在4Cr13钢基体上熔覆ZrO2与Ni合金的混合粉末, 形成了分层结构的复合涂层, 即表面为致密的ZrO2陶瓷层.介于陶瓷层与基体之间的是Ni基合金过渡层。组织分析表明, ZrO2层的上部为等轴晶, 中下部为柱状晶, 主要由t＇-ZrO2相及少量沿t＇晶界分布的m-ZrO2相组成；Ni合金结合带呈现出树枝晶及其晶间共晶的单一凝固组织。该复合涂层的分层机制可解释为互不混溶的ZrO2与Ni合金熔珠在界面张力和浮力作用下发生离析重排, 再各自重新凝固。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-11
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38644233

  1. 纳米材料ZrO

  2. 首次报道单斜ZrO2纳米材料在各种微晶粒度下的傅里叶交换红外光声光谱(FT-IR-PAS)，发现随着粒度的减小，波数低于1048 cm-1的谱线强度减弱，而波数高于1048 cm-1的话线强度增加，一些话线位置有红移，并观察了压力效应.对上述量子效应进行初步解释.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：1032192
    • 提供者：weixin_38656463

  1. 溶胶-凝胶法制备ZrO

  2. 以锆酸丙酯[Zr(OPr)4]、正硅酸乙酯(TEOS)为原料, 用溶胶-凝胶(sol-gel)提拉法涂膜, 制备高透过的λ/ 4～λ/ 4型ZrO2/SiO2双层减反膜。该减反膜的表面均匀, 均方根(RMS)粗糙度为1.038 nm, 平均粗糙度(RA)为0.812 nm。制备的双层减反膜具有很好的减反效果, 在石英玻璃基片二面涂膜, 在激光三倍频波长351 nm处透射比达到99.41％, 比未涂膜石英玻璃基片的透射比提高了6.14％;在基频波长1053 nm处透射比达到99.63％, 比未涂膜

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-10
    • 文件大小：472064
    • 提供者：weixin_38733382

  1. 激光预处理ZrO

  2. 分析了激光预处理对ZrO

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38518668

  1. ZrO

  2. 无论是在300℃或室温下,用PVD方法淀积的ZrO_2薄膜,达到一定厚度后都出现晶相非均匀性,在基底侧为四方相,空气侧为单斜相.本文给出了ZrO_2薄膜中四方相存在的原因,并用晶体生长过程中的择优生长特性讨论了薄膜柱状体结构的成因,从而解释了薄膜的折射率非均匀性.

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：4194304
    • 提供者：weixin_38703968

  1. ZrO

  2. 采用同轴送粉激光近净成形系统，在纯钛基体上进行激光近净成形(LENS) ZrO2-13%Al2O3(质量分数)复合陶瓷的基础实验研究。分析了激光功率和扫描速度对激光近净成形陶瓷薄壁宏观质量(宽高、表面平整性和宏观裂纹)的影响规律，获得致密、无宏观裂纹的陶瓷薄壁件。利用扫描电镜观察了成形件的微观组织，结合电子探针(EPMA)和X射线衍射仪(XRD)分析了微观组织成分和ZrO2陶瓷激光加工前后相成分的变化。结果表明，激光功率和扫描速度对激光近净成形陶瓷单层高度和表面宏观质量具有重要影响，通过精确控制

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-02-09
    • 文件大小：2097152
    • 提供者：weixin_38649838

  1. ZrO

  2. 采用化学溶液沉积法，在石英玻璃上制备了ZrO2∶Eu3+,Y3+(Eu-YSZ)转光膜，研究了Eu3+、Y3+掺杂浓度对薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能的影响。在波长为396 nm的紫外光和波长为466 nm的蓝光照射下，Eu-YSZ薄膜可发射出发光中心在593 nm和609 nm附近的红光带，这归因于Eu3+离子的能级跃迁，且薄膜在可见光区间具有较高的透过率。研究表明，Eu-YSZ转光膜有利于减少短波蓝光对人眼视网膜造成的伤害。

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-27
    • 文件大小：3145728
    • 提供者：weixin_38669618

  1. ZrO

  2. 为研究超二氧化锆(ZrO

  3. 所属分类：其它

    • 发布日期：2021-01-25
    • 文件大小：1048576
    • 提供者：weixin_38746918
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