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  1. Development of TSV interposer for flipchip package

  2. IEEE document : Development of Through Silicon Via (TSV) interposer for memory module flip chip package
  3. 所属分类:制造

    • 发布日期:2012-10-01
    • 文件大小:2097152
    • 提供者:fangsnan
  1. ansys workbench help

  2. workbench help pdf,TSV technology utilized to form the vertical interconnection of the package has been well reported. In this paper, a detailed study has been done to analyze the effect of TSV design on the thermal properties of interposer, and con
  3. 所属分类:专业指导

    • 发布日期:2015-03-09
    • 文件大小:17825792
    • 提供者:u013477062
  1. Intel-RealSense-D400-Series-Datasheet

  2. Intel RealSense D400系列摄像头使用文档 /Intel RealSense D400系列摄像头使用文档Descr iption and Features intel REALSENSE TECHNOLOGY Contents Descr iption and Features 11 Introduction .12 2.1 Purpose and scope of this document ■■■画画 12 Terminology 12 2.3 Stereo Vision D
  3. 所属分类:深度学习

    • 发布日期:2019-07-29
    • 文件大小:5242880
    • 提供者:dontla
  1. 基于APD的2.5D封装中介层自动化设计

  2. 由于高带宽存储器(High Bandwidth Memory,HBM)的高带宽特性,在2.5D封装中介层(Interposer)的版图设计过程中存在大量HBM接口的连线需要手动完成。介绍了如何使用SKILL语言在Allegro封装设计工具 (Allegro Package Design,APD) 中实现HBM接口的自动布线,将原来的手动布线时间从2周缩短到10 min,大大压缩设计周期。
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-10-15
    • 文件大小:628736
    • 提供者:weixin_38720390
  1. 基础电子中的中介层在3-D集成IC中发挥重要作用

  2. 中介层(Interposer)可以在堆叠芯片中再分布互连线,它在采用穿透硅通孔(TSV)的3D集成商业化进程中正扮演着越来越重要的角色,日前在日本东京附近举行的JissoForum2008上有与会者这样宣称(Jisso是日本语,代表各种封装技术)。   例如3-D集成会将存储芯片和逻辑芯片的焊垫进行阵列。论坛上专家表示,尽管长期目标是采用标准的焊垫尺寸和位置来集成芯片,但是标准实现还有些困难。在过渡期,再分布互连层的中介层将充当连接芯片和不同位置及尺寸的焊垫的角色。   若没有中介层,堆叠I
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-10
    • 文件大小:74752
    • 提供者:weixin_38526421
  1. 下一代Chip Stack技术将使双层堆叠SiP厚度缩小到0.5mm

  2. 瑞萨科技近日在苏州电博会举行的技术交流会上透露,该公司正在开发的下一代Chip Stack技术将使其SiP(系统级封装)产品加速向薄型发展。“目前瑞萨科技2个裸片堆叠的SiP厚度为1.2mm。”瑞萨科技SiP设计事业部经理海野雅史表示,“我们的目标是在现有技术的基础上使该值降低到1.0mm,然后利用下一代的Chip Stack处理技术,进一步将其缩减到0.5mm。”    瑞萨科技将通过硅连接电极技术达到上述目的。海野雅史以CPU和存储器2层裸片堆叠的SiP为例介绍说,硅连接电极技术的原理是通过
  3. 所属分类:其它

    • 发布日期:2020-11-28
    • 文件大小:70656
    • 提供者:weixin_38636461