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高功率半导体激光宽带熔覆WC-NiSiB耐磨涂层的组织结构与性能
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文件大小: 2mb
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上传时间: 2021-03-14
详细说明：采用 3 kW 高功率半导体激光器，在 45 钢基体上制备不同 WC 含量(质量分数 20%~80%)的 WC-NiSiB 复合涂层，用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及 X 射线衍射(XRD)对熔覆层的微观组织、成分分布及物相进行表征，并测试涂层试样的硬度与耐磨性能。结果表明，激光熔覆 WC-NiSiB 复合涂层组织主要由γ-Ni、WC、W2C、WB、W2B、Ni4B3及 Ni4W 等物相组成，熔覆层与基体形成冶金结合。涂层与基体的结合区，从熔合线开始逐渐向上的组织依次为垂直于界面的胞状晶、柱状晶和枝状晶，熔覆层中部为沿一定方向生长的树枝晶，表层为异向生长的细小树枝晶。随 WC 颗粒含量增加，涂层中 WC 颗粒分布更加密集。WC 含量为 60%时，WC 颗粒分布均匀致密，熔覆层无裂纹，熔覆层的硬度最高达到 1291 HV，为 NiSiB 合金层硬度的 2.7 倍，耐磨性是 NiSiB 合金层的 6.8 倍。
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