文件名称:
基于富硅氮化硅薄膜的两端充电控制存储器件中的纳米粒子辅助Frenkel-Poole发射
开发工具:
文件大小: 512kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-03-13
详细说明：通过将Si离子注入到Si3N4薄膜中，然后进行高温热退火，已经合成了嵌入硅纳米粒子（Si-NP）的氮化硅（Si3N4）薄膜。 随着不同的硅离子注入剂量，Si-N4基质中的Si-NPs浓度也发生了变化。 通过形成嵌入Al / Si-NP的Si3N4 / p-Si结构，通过器件电流中电荷引起的调制来观察存储行为。 然后进行电流-电压测量，以研究载流子传输机制，从而了解充电引起的器件电阻变化的起源。 发现电流在低电场下表现出基于跳跃的传导机制。 在高电场下，发现Frenkel-Poole（F-P）发射支配着电流传导。 结果，在正电压下，氮化物膜的Si-NPs中由电荷引起的电子俘获会增强F-P发射，从而导致电阻显着降低。 但是，由负电压引起的空穴俘获会抑制电流传导。 基于这种嵌入了Si-NP的Si 3 N 4薄膜的两端子器件有望用作充电控制的存储器件。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
