文件名称:
模拟氧化铜生长过程中800-1,100 K时红铜T2的正常光谱发射率
开发工具:
文件大小: 828kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-03-10
详细说明：本文努力模拟氧化物生长过程中红铜T2的正常光谱发射率 层 在 800 -- 1100 K. 因此，正常光谱 发射率 的 红色的 铜 T2 标本 是 被评估 在 这 十六 定 温度 期间 一种 加热时间为6小时。 在实验中，使用InGaAs光电二极管检测器在1.5的条件下测量正常辐射 垂直于 这 标本表面尽可能准确。 通过平均两个铂铑热电偶获得样品表面的温度，这两个铂铑热电偶对称且紧密地焊接在检测器所观察到的测量区域附近的样品前表面中。 正常光谱发射率的强烈振荡仅发生在最初的加热期间 每个 定 温度， 哪个 已 是 肯定的 到 是 连接的 和 这 厚度 的 氧化物 层 在 这 样品 表面。 讨论了试样表面氧化层发出的辐射与基片发出的辐射之间的干涉效应，这是引起正常光谱发射率强烈振荡的原因。 仅由表面氧化作用引起的正常光谱发射率的不确定度估计为3.3 -- 10.0％，相应的温度不确定性估计为 3.2 -- 10.0 K.之间的分析模型 正常的光谱发射率和 加热 时间 是 被评估 在 细节。 一种 简单的 功能性 形式 和 指数函数和对数函数 已 是 成立 到 复制 出色地 这 变化 的
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
