文件名称:
Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制
开发工具:
文件大小: 2mb
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上传时间: 2021-02-25
详细说明：为了获得光学性质均匀的大面积软X射线多层膜，必须控制好周期结构中单层膜的厚度均匀性。为此建立了磁控溅射薄膜沉积技术中单层膜厚度均匀性的分析和控制模型，解释了基底变速转动法可用来获得膜厚均匀的多层膜，并根据理论分析获得了基底的变速路径。将其应用于基底公转速度变速法来制备均匀性可控的大面积Mo/Si软X射线多层膜。小角X射线衍射测试结果表明，采用优化后的变速路径制备的多层膜，样品不同位置的各级次衍射峰位都能很好吻合，说明多层膜的周期厚度基本一致。计算表明该方法在直径200 mm范围内可将周期结构中Mo层的不均匀性从20.6%修正到1.1%，Si层的不均匀性从27.0%修正到1.6%。
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