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文件名称: 硅酸氧灰石:钕的新高贮能激光基质
  所属分类: 其它
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  文件大小: 2mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-02-25
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:具有空间群为P63/m的磷灰石结构的材料,被广泛用作荧光离子的基质。这类材料之一的氟磷灰石Ca5(PO4)3F(FAP),是已知的掺Nd3+的晶体激光材料中长脉冲效率最高和阈值最低者,这些性质是由于Nd3+在这种结构中有宽的吸收光谱和一种格位对称性。掺钕氟磷灰石(FAP:Nd3+)激光器的高增益,对于长脉冲和连续运转是有利的,但是,在用于Q开关运转时,却受到很大的限制。因此,我们要寻找另外的一些氧灰石基质,在这些基质中,可以改变荧光离子(例如,Nd3+)的局域离子环境,以提高贮能容量,但仍保持氟磷灰石的高效率特性。
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