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上传时间: 2021-02-12
详细说明：沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一，影响着成膜的微观结构和化学成分，从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很大的影响。SiO2材料是制备光学薄膜的主要低折射率材料之一，由于其导热性很弱，并且以升华的方式进行蒸发，因此在蒸发过程中表面会出现凹坑，影响其蒸发特性，不利于沉积速率的稳定。考虑到SiO2材料的蒸发特性，进行了电子束自动蒸发SiO2材料沉积速率控制实验，利用设计的扫描控制仪，采用设计的路径进行焦斑自动扫描，在扫描过程中采用比例-积分-微分(PID)闭环反馈法对沉积速率进行控制，实验结果表明，通过控制可以得到良好的材料表面特性和较稳定的沉积速率。
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