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脉冲激光沉积技术沉积温度对PZT/LSAT薄膜生长取向的影响
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文件大小: 929kb
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上传时间: 2021-02-12
详细说明：采用固相法分别制备了标准摩尔配比和铅过量10%的两种靶材,并利用脉冲激光沉积技术(PLD)在镧锶铝钽(LaSrAlTaO3,LSAT)单晶衬底上成功制备了锆钛酸铅(Pb(Zr0.3Ti0.7)O3,PZT)铁电薄膜,在550～750 ℃沉积温度范围内研究了PZT薄膜的生长取向和铅含量对薄膜生长取向的影响。利用X射线衍射(XRD)仪和原子力显微镜(AFM)表征了薄膜生长取向和表面形貌。XRD测量表明在标准摩尔配比情况下薄膜生长从550 ℃近似c轴取向逐渐过渡到750 ℃近似a轴取向,而在铅过量情况下薄膜生长取向无明显过渡性变化; AFM测量表明PZT薄膜在近似c轴和a轴生长情况下,表面均方根(RMS)粗糙度分别为16.9 nm和13.7 nm,而在混合生长无择优取向的情况下,薄膜表面均方根粗糙度达到68 nm,这可能是两种取向竞争生长的结果。
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