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上传时间: 2021-02-12
详细说明：设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置，两片负透镜作为变倍组，两片正透镜作为移动补偿组，补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653.67 mm，系统采用的22片透镜元件，全部采用球面设计，同时系统中没有使用特种光学玻璃。该系统工作在光刻常用波长405 nm下，其500 lp/mm调制函数值在4个变焦位置和所有视场内均大于0.40，绝对畸变小于六分之一特征尺寸。设计结果表明该系统成像效果良好，制作成本低，适用于工作在刻蚀微米量级分辨率、变焦距双远心光刻系统中。
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