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上传时间: 2021-02-12
详细说明：为提高国内惯性约束聚变(ICF)装置的焦斑平滑能力，在对光谱色散平滑(SSD)技术理论分析的基础上，开展相关实验并研究其平滑机制。实验结合另一种焦斑平滑技术——分布式相位板(DPP)比较分析光谱色散平滑技术应用下的焦斑均匀性的变化。实验表明，利用光谱色散平滑技术中的正弦相位调制对光谱展宽并色散后，在色散方向上的焦斑均匀性有明显改善，120 μm内的光强调制被平滑，其平滑能力依赖于光谱色散平滑技术参量的选择;焦斑的低频光谱强度变化很小，但中高频光谱强度下降，焦斑质量有良好的改善，焦斑的不均匀性从40%降低到12.5%。结果还表明，光谱色散平滑技术中的关键是色循环的产生，光谱本身加宽产生的平滑作用非常有限。
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