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上传时间: 2021-02-11
详细说明：介绍了组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵的基本原理和制备工艺,这是一种效率非常高的制备方法,只需N次刻蚀就可以完成2N通道窄带滤光片列阵的制备,而且可以用于制备不同波段窄带滤光片列阵。展示了可见-近红外波段32通道窄带滤光片列阵和中红外波段16通道窄带滤光片列阵的实验结果,其中32通道窄带滤光片列阵的带通峰位基本呈线性分布在774.7～814.2 nm之间,所有滤光片的半峰全宽都非常窄(δλ<1.5 nm),相应于δλ/λ<0.2％,半峰全宽最窄的滤光片达到0.8 nm,相应于δλ/λ<0.1％,其带通峰位λ=794.3 nm;各通道的带通透过率在21.2%～32.4%之间,大部分在30%左右。
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