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上传时间: 2021-02-11
详细说明：利用脉冲激光沉积(PLD)技术在镀钛的陶瓷衬底上制备出了非晶态氮化硼薄膜,借助于X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及Raman光谱分析了该薄膜的结构,并研究了薄膜场致电子发射特性,阈值电场为4.6 V/μm,当电场为9 V/μm时,电流密度为50 μA/cm2.
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