文件名称:
Research on Intense Pulsed Emission Stability of Carbon Nanotube Films Grown on Si with Electroless Plated Cu Layer
开发工具:
文件大小: 768kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-10
详细说明：为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列.在20 GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1 V/μm,发射电流密度为0.892 kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好.
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