文件名称:
光学元件超精密气囊抛光关键技术研究现状
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上传时间: 2021-02-10
详细说明：空间光学元件对面形精度和表面质量有着极高的要求, 气囊抛光采用了新型的抛光工具和特殊的运动形式, 是一种高精度、高效率的光学元件加工方法, 尤其适用于非球面的加工, 具有广阔的应用前景。分析了气囊抛光技术的基本原理及该技术的发展过程, 介绍了气囊抛光相关技术的研究情况和实验结果, 对几项关键技术的研究现状进行综述, 重点介绍材料去除特性、驻留时间控制算法、边缘精度控制以及最新开发的喷液抛光技术的研究情况。
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