文件名称:
利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度
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文件大小: 783kb
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上传时间: 2021-02-10
详细说明：为了探讨不同清洗工艺对基片表面微观粗糙度的影响, 利用总积分散射(TIS)仪分别对不同条件下超声清洗的K9玻璃基片,End-hall离子源清洗的K9玻璃基片和Kaufmann离子源清洗的熔石英基片的表面均方根(RMS)粗糙度进行了系统表征。结果表明, K9玻璃基片经不同条件下的超声波清洗后, 由于清洗过程中表面受到损伤, 其RMS粗糙度均有所增加; 而对于End-hall离子源和Kaufmann离子源清洗的基片, 其表面RMS粗糙度的变化受清洗过程中离子束流、清洗时间和离子束能量等实验参量的影响较为明显, 选择合适的实验参量可以降低基片表面粗糙度。
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