文件名称:
Patterning process of SiO2 film and fabrication of Si V-groove
开发工具:
文件大小: 347kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-10
详细说明：In the process of silicon wet etching, the SiO2 film formed by thermal oxidation is firm and compact, and it is an excellent mask material. However, there are some difficulties in its patterning process. Considering the high density of the SiO2 film, its etching time is so long that the protective l
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