文件名称:
大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计
开发工具:
文件大小: 3mb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-09
详细说明：极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术，高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计满足22 nm产业化光刻机需求的极紫外光刻投影物镜，采用6枚高次非球面反射镜，像方数值孔径达到0.3，像方视场宽度达到1.5 mm。整个曝光视场内的平均波像差均方根值（RMS）为0.0228λ，不采用任何分辨率增强技术的情况下，75 nm光学成像的焦深内，25 nm分辨力的光学调制传递函数（MTF）大于45%。在部分相干因子为0.5～0.8的照明条件下，畸变小于1.6 nm，线宽变化小于1.6%。物面到像面的距离为1075 mm，像方工作距大于30 mm。该物镜结合离轴照明或相移掩模等分辨率增强技术，能够在更大的焦深内实现22 nm光刻分辨率的光刻胶成像，满足半导体制造中22 nm节点技术对产业化极紫外光刻物镜的需求。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
