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上传时间: 2021-02-09
详细说明：根据激光敌我识别系统的使用要求，选择H4和SiO2作为高低折射率材料，借助Macleod和TFCalc软件进行膜系优化设计和分析。采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积技术，通过正交矩阵实验对材料的工艺参数进行调整和优化，利用基片的正反面分别对带通滤光片的长波反射带和短波反射带进行展宽，解决了单面膜层过厚难以控制的问题，制备了符合要求的激光滤光膜。镀膜后的基片在532，632，905，1064和1550 nm波长处的透射率小于0.2%，808 nm波长附近的平均透射率大于95%。并在532 nm和1064 nm波长处具有较高的激光损伤阈值，能承受恶劣的环境测试，满足激光敌我识别系统中光学仪
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