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玻璃和聚酰亚胺衬底上磁控溅射沉积的ZnO∶Al透明导电膜的结构、电学和光学性能
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上传时间: 2021-02-09
详细说明：利用射频磁控溅射方法在玻璃和聚酰亚胺膜（PI）衬底上沉积了氧化铝质量分数为2%的掺铝氧化锌透明导电薄膜（ZnO∶Al）。系统地研究了不同衬底材料对薄膜的结构、电学以及光学性能的影响。分析表明，衬底材料对薄膜的结晶性和电学性能有较大的影响，对可见光透射率却影响不大。X射线衍射(XRD)分析得出所有的ZnO∶Al具有良好的c轴择优取向性，在可见光区(400～800 nm)两种衬底上的薄膜都达到了85%的透射率。玻璃衬底上的薄膜呈现出更强的（002）衍射峰及相对更小的半峰全宽（FWHM），薄膜电阻率达到了2.352×10-4 Ω·cm。电镜分析表明，相对于PI上的ZnO∶Al膜，玻璃上ZnO∶Al膜
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