文件名称:
193 nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究
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上传时间: 2021-02-09
详细说明：光刻是大规模集成电路制造过程中最为关键的工艺，光刻的分辨力主要取决于光刻投影物镜的光学性能。光刻投影物镜光学元件面形精度为纳米量级，其对光学元件的加工及物镜单镜支撑提出了极高的要求。为193 nm光刻投影物镜高精度的单镜面形，设计了一种运动学单镜支撑结构。运用有限元法(FEM)分析光刻投影物镜单镜运动学支撑结构在重力下物镜镜片的面形变化量，经分析物镜镜片的峰值(PV)值为15.46 nm，均方根(RMS)误差为3.62 nm。为了验证有限元计算精度，建立了可去除参考面面形及被测面原始面形的方法。经过分析对比，仿真结果与实验结果面形的PV值为2.356 nm，RMS误差为0.357 nm。研究结
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