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上传时间: 2021-02-09
详细说明：利用HF蚀刻和热处理，结合原子力显微(AFM)分析，对传统抛光和磁流变抛光的表面结构进行了表征。为了分析热处理凸起的形成源，抛光表面在热处理前分别采用超声清洗、化学沥滤和HF蚀刻三种不同的表面处理技术进行处理，去除了不同表面材料。蚀刻形貌和热处理形貌及其关联性表明，传统抛光表面存在着大量纳米级缺陷，这些缺陷由易于诱导激光损伤的纳米级微裂纹和颗粒状分布的抛光杂质组成。结合抛光机制的分析，建立了传统抛光表面的微裂纹颗粒杂质结构模型。
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