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上传时间: 2021-02-09
详细说明：薄膜光学常数的精确测定对于设计和制备多层薄膜具有重要意义。在JGS1型熔融石英基底上，采用热蒸发沉积方法制备了不同厚度的LaF3单层薄膜样品，利用光度法来获取弱吸收薄膜和基底的光学常数，计算得到其在185~450 nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线。实验结果表明，当膜层厚度较薄时，LaF3薄膜折射率表现出不均匀性现象。随着薄膜厚度的增加，薄膜折射率不均匀性减小。在求解过程中选用不均匀模型后，拟合结果与实际测试光谱曲线吻合得很好，提高了薄膜光学常数的计算精度。
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