文件名称:
光刻胶在二元光学元件制作工艺中的行为研究
开发工具:
文件大小: 1mb
下载次数: 0
上传时间: 2021-02-08
详细说明：在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重 要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与掩模版的图形达到很高的一致性, 这样才能实 现元件被高保真地制作到衬底上。在整个工艺过程中, 由于不同光刻胶表现不同的行为特性使得 所制作的器件性能有较大的区别。通过比较不同光刻胶在不同工艺过程中的行为,在二元光学元 件的制作中,通过选用特性不同的光刻胶: 在第一次光刻刻蚀台阶较深时,选择粘度系数较大,高感 光度, 耐刻蚀的厚胶；在套刻中, 刻蚀台阶较浅时, 选用高分辨率、高陡直度、耐高温的薄胶,最终制 作出了性能良好的二元光学元件。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
