文件名称:
大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化
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上传时间: 2021-02-08
详细说明：为了提高半导体激光器腔面膜的激光损伤阈值，进而提高激光器输出功率，对激光器的灾变性光学镜面损伤产生的原因进行了探讨。根据损伤原理，将高反膜中场强最大处移出界面，采用光学传输矩阵，对厚度连续变化的界面场强和反射率进行了计算，得到优化高反膜系，优化膜系减小了界面处的光场对薄膜的损伤。采用改进后束流密度更大的LaB6作为阴极原位等离子源，对离子源清洗的参数进行了优化。薄膜制备前期使用离子清洗的方法在真空环境下对腔面进行去氧化，在制备过程中使用电子束蒸发离子源辅助沉积,并测试了薄膜在高温高湿环境下的稳定性。使用该优化的膜系和清洗方法制备的半导体激光器，在准连续输出时，功率由4.6 W提升到了7.02 W，工作电流由5 A提升到了8 A。
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