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文件名称: 激光预处理对HfO
  所属分类: 其它
  开发工具:
  文件大小: 6mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2021-02-08
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:研究了在1-on-1情况下,采用不同激光能量对HfO2薄膜进行预处理后,薄膜的光学特性、损伤阈值以及损伤形貌变化的机理。实验采用阈值能量的10%、30%、50%、70%对薄膜进行1-on-1预处理,经过预处理后的薄膜表面粗糙度平均从2.62 nm降低到2.41 nm。随着能量阶的提升,激光预处理后薄膜在1064 nm处的透射率与预处理前相比均有所增大。激光损伤阈值先增后降,30%能量预处理的薄膜损伤阈值最高,达到了26.86 J/cm2,增幅为56%。对比预处理前后的损伤形貌可知,30%能量预处理后薄膜在140 mJ能量下,损伤深度由预处理前的98 nm减小到了30 nm,损伤斑个数由预处理前
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