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基于同步辐射光刻工艺和电铸工艺的金属纳米光栅模具制备
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上传时间: 2021-02-05
详细说明：随着微电子技术的发展，有必要研究在基板上制备高深宽比并拥有垂直侧壁的微纳结构。基于X射线可以制备高质量的纳米母光栅，利用精密纳米电铸技术从母光栅中复制出高质量的微纳金属光栅模具。研究了一种高深宽比的金属镍光栅模具的制备技术。基于同步辐射光刻技术，在硅基板上制备线宽分别为0.25，0.5，1 μm，高2.0 μm的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光栅。利用精密电铸技术，得到线宽分别为0.25，0.5，1 μm的金属镍纳米光栅模具，1 μm的金属光栅深宽比达1.5。为了获得高质量的PMMA纳米光栅母模，使用了粘接剂，克服了光栅倒伏的缺陷，优化曝光参数，消除了结构底部出现的多余的小三角形结构。
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