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电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的误差分析及补偿方法
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上传时间: 2021-02-04
详细说明：在激光等离子体诊断等领域中，以平焦场光栅为核心器件的软X射线光谱仪发挥着重要作用。利用电子束光刻-近场全息法制作的平焦场光栅兼具电子束光刻线密度变化灵活，以及全息光栅低杂散光、抑制高次谐波等的特点。采用光线追迹方法分析电子束光刻-近场全息法制作平焦场光栅的主要制作误差对其光谱成像特性的影响。结果表明：电子束光刻制备熔石英掩模和近场全息图形转移过程的制作误差均会导致谱线展宽；以目前应用较多的软X射线平焦场光栅(中心线密度为2400 line/mm、工作波段在0.8~6.0 nm)为例，当熔石英掩模在光栅矢量方向的长度为50 mm时，电子束光刻分区数目应保证在1500以上；熔石英掩模线密度偏差引入
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