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文件名称: GaN基微波半导体器件分析和比较
  所属分类: 其它
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  上传时间: 2021-01-20
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:宽禁带半导体材料氮化镓(GaN)以其良好的物理化学和电学性能成为继代元素半导体硅(Si)和第二代化合物半导体砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)、磷化铟(InP)等之后迅速发展起来的第三代半导体材料。与目前绝大多数的半导体材料相比,GaN 具有独特的优势:禁带更宽、饱和漂移速度更大、临界击穿电场和热导率更高,使其成为令人瞩目的新型半导体材料之一。目前,GaN 基发光器件的研究已取得了很大进展[1~ 3] ,在国外工作于绿光到紫光可见光区内的GaN LED 早已实现了商业化[2];国内多家单位成功制作了蓝色发光二极管,并初步实现了产业化[3]。而众多的研究[4~ 14] 表明,GaN 材料在制作
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