开发工具:
文件大小: 73kb
下载次数: 0
上传时间: 2021-01-19
详细说明：我们所用的膜层材料为SiNO系材料，图1为镀SiN膜所得的实验结果。曲线1为镀膜前外延片的反射谱，曲线2和3 分别对应膜厚为95 nm和135 nm的情形，膜厚度用椭偏仪测出。从曲线1可知，片子的e－lh峰在840 nm，e－hh峰 在848 nm，模式波长的位置在832 nm。对于常通型调制器，模式波长的位置应在e￣hh峰的长波长方向；而常关型 器件，模式波长的位置应在e-hh峰附近，而且顶部必须镀减反膜，否则器件会工作在饱和区，降低器件的调制特 性。由于模式波长位置不合适，先采用镀SiNO减反膜的方法来移动模式波长。
图1 镀SiN膜前后器件的反射谱
由曲线2膜厚95 nm的反射谱
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
相关搜索:
