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上传时间: 2021-03-20
详细说明：随着技术节点逐渐从45nm 缩小到10nm，传统的喷射清洗技术已经难以清除掉微小的颗粒，随之取代的是兆声波清洗技术，其利用兆声波产生的气穴将颗粒移除。但兆声波的传递并不均匀，颗粒去除率低，而ACM 开发的SAPS 技术可利用微小的移动解决兆声波传递的均匀性。 存储芯片从2D 升级到48 层3D 使芯片的高深宽比逐渐提高，逻辑芯片进入finFET 结构，有效的清洁需要使用较高功率级别的兆声波，这样会使原本脆弱的晶圆片造成严重图案损伤。而TEBO 技术可以稳定气泡的震荡，达到低甚至零损伤。 单一制程设备范围内，很少有国产设备企业存在相互竞争的情况，国产品牌各自主攻某一项或两三项核心制程设备的国
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