开发工具:
文件大小: 475kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-04-03
详细说明：本文提出了对我们以前的工作的扩展和完善，该工作是通过使用背景场技术[1]提取晶格上的双重虚拟正向康普顿散射幅度。 讨论了周期性背景场的零频率极限，其中再现了众所周知的结果。 此外，确定了外部场的大小的上限，对此仍然可以进行微扰处理。 最后，为评估有限体积校正设置了框架，从而可以分析即将来临的晶格结果。
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)
下载文件列表
相关说明
- 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
- 本站是交换下载平台，提供交流渠道，下载内容来自于网络，除下载问题外，其它问题请自行百度。
- 本站已设置防盗链，请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源，下载后用WinRAR最新版进行解压.
- 如果您发现内容无法下载，请稍后再次尝试；或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
- 下载后发现下载的内容跟说明不相乎，请到消费记录里找到下载记录反馈给我们，经确认后退回积分.
- 如下载前有疑问，可以通过点击"提供者"的名字，查看对方的联系方式，联系对方咨询.
