您好,欢迎光临本网站![请登录][注册会员]  
文件名称: 将LUX照射到违反同位旋的暗物质上,超出领先水平
  所属分类: 其它
  开发工具:
  文件大小: 1mb
  下载次数: 0
  上传时间: 2020-03-26
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:提出了违反同位旋的暗物质(IVDM)作为调和直接检测暗物质实验产生的正负结果冲突的可行方案。 我们表明,最低阶暗物质-核散射速率可以在手征展开中的下一至领先阶(NLO)处接收大的和依赖于核的校正。 这些校正的大小取决于暗物质与夸克口味和胶子的特定耦合。 通常,仅零能量质子和中子耦合不能充分描述整个NLO暗物质核截面。 在暗物质通过标量算子耦合到夸克的情况下,具体说明了这些陈述。 我们发现规范的IVDM方案可以调和无效的XENON和LUX结果,并且最近的CDMS-Si发现提供了其与第二代和第三代夸克的耦合位于特定的行上或被抑制了。 在存在非零重夸克耦合的情况下,发现具有新的中子-质子耦合比值的良
(系统自动生成,下载前可以参看下载内容)

下载文件列表

相关说明

  • 本站资源为会员上传分享交流与学习,如有侵犯您的权益,请联系我们删除.
  • 本站是交换下载平台,提供交流渠道,下载内容来自于网络,除下载问题外,其它问题请自行百度
  • 本站已设置防盗链,请勿用迅雷、QQ旋风等多线程下载软件下载资源,下载后用WinRAR最新版进行解压.
  • 如果您发现内容无法下载,请稍后再次尝试;或者到消费记录里找到下载记录反馈给我们.
  • 下载后发现下载的内容跟说明不相乎,请到消费记录里找到下载记录反馈给我们,经确认后退回积分.
  • 如下载前有疑问,可以通过点击"提供者"的名字,查看对方的联系方式,联系对方咨询.
 输入关键字,在本站1000多万海量源码库中尽情搜索: