文件名称:
磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管
开发工具:
文件大小: 316kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-02-29
详细说明：磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管，张莹莹，王雄，采用磁控溅射方法在玻璃衬底上生长了In2O3晶体薄膜。该薄膜具有（111）晶面择优取向，晶粒尺寸达到33 nm。利用光刻工艺制作了以In2O3晶
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