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上传时间: 2020-02-01
详细说明：微晶硅沉积的射频等离子体辉光发射谱，朱锋，赵颖，采用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）技术在高沉积功率、低衬底温度的条件下沉积微晶硅薄膜材料。光发射谱（OES）测量技术�
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