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上传时间: 2020-01-29
详细说明：多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究，展长勇，蒋稳，采用磁控溅射的方法来分别在随机刻蚀的多孔硅和孔径2.5 μm、12 μm、15 μm的多孔硅阵列上沉积钛膜。分别讨论了加偏压和不加偏压条件�
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