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基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响
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文件大小: 353kb
下载次数: 0
上传时间: 2020-01-08
详细说明:基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响,陈亚,李小丽,采用脉冲激光沉积(PLD)方法在玻璃基片上沉积了ZnO半导体薄膜,详细研究了基片温度对ZnO薄膜的沉积速率,结晶取向,透过率、带隙、载�
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