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上传时间: 2020-06-05
详细说明：目的：所有当前的剂量学规程都建议使用保护良好的平行板离子室进行电子剂量学。 对于无防护的Markus腔室，给出了能量依赖的注量扰动校正pcav。 范德普拉森（van der Plaetsen）通过比较马库斯（Markus）和NACP腔室的读数来实验确定这种扰动校正，假定这是“无扰动”的。 本研究的目的是基于蒙特卡罗对该实验的重复。 方法：使用蒙特卡罗代码EGSnrc设计四个平行板腔室（Roos，Markus，NACP和Advanced Markus）的详细模型，并将其放置在水模型中。 对于所有腔室，针对最大临床深度和参考深度下的13个临床电子光谱（E0 = 6-21 MeV）和Electra线性加速器的三个能量，计算出填充有低密度水的有效容积的剂量条件。 在所有情况下，腔室的参考点都位于测量深度处。 此外，在相同深度的小水素中计算出水DW的剂量。 结果：根据van der Plaetsen的计算得出的剂量比DNACP / DMarkus反映了Markus腔室的注量扰动校正，与van der Plaetsen给出的值相比，单位偏差较小，但表现出相似的能量依赖性。 其他保护良好的腔室的剂量
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