文件名称:
基础电子中的电子工程领域应用的印刷技术
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文件大小: 157kb
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上传时间: 2020-11-18
详细说明:在电子工程领域所应用的高精细制模工艺方法,在实际的生产业领域大多是采用照相平版制法。
表1乃是整理了已经商品化的电子工程部件和光学部件的最小线宽,从批量生产的加工方法看,光掩膜的模型因为是纳米级水平,必须采用照相平版制板工艺,但10μ以上线宽的显像管障板和印刷电路板的模型,目前也是采用照相平版工艺进行批量生产。其理由是这种方法的可靠性高。
尽管这么认为,由于电子工程领域,光学部件领域的应用已普及,加上要求加工方法进一步降低成本,正在探讨采取印刷、喷墨、电子照相等其它的工艺方法来取代。
这是因篇幅所限,只能简单介绍采取印刷加工方法能达到的高精细程度,及其生产应用的若干范例。
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