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文件名称: 显示/光电技术中的脊宽和脊高对载流子密度的影响
  所属分类: 其它
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  文件大小: 98kb
  下载次数: 0
  上传时间: 2020-11-13
  提 供 者: weixin_********
 详细说明:首先考虑脊高对注入载流子密度的影响。我们这里考虑到脊高是图1中刻蚀掉的深度矽。为了保证单模条件,这个深度一定要小于6.5/2=3.25 gm,所以我们在图1中假设了3.2pm,这个深度对光场的限制较强;用Silvaco进行模拟,并给出模拟结果,   下面我们考虑保证单模条件下将莎值减小到2pm。利AA线和BB线的结果分别如图1和图2所示。   图1  垂直方向载流子浓度的变化   图2   水平方向载流子浓度的变化   由图1可以看出,沿AA方向的载流子密度受脊高的影响不大,即使在光场比较集中的地方变化也较小;沿BB方向,差别最大的位置也不过相差了1%左右,所以脊高对载流子密度
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